翌日清晨，编写组的成员们早早便聚集在临时分配的小会议室里。
一位来自会务方的年轻教师简明交代了任务。
编写组将按专题讨论组别进行划分，各自负责整理对应组的讨论记录，核心任务是提炼出其中的技术需求、可共享资源清单以及初步达成的合作意向，并进行标准化归类。
最终，所有小组的成果将汇总整合，形成《技术协作与课题攻关备忘录》初稿的核心素材。
任务明确，效率至上。
简单的自我介绍和分工确认后，众人便迅速进入了状态。
吕辰被分到了一个综合记录小组，负责的范围涵盖了“前瞻技术”组的大部分内容，以及“材料与工艺”组中涉及新型材料和制备技术的部分。
这无疑是一个极具挑战性却也充满机遇的位置。
会议室里很快安静下来，只剩下纸张翻动的哗啦声、笔尖划过稿纸的沙沙声，以及偶尔响起的、压低嗓音的确认与讨论。
阳光透过窗户，照亮了空气中浮动的微尘，也照亮了这些年轻面孔上的专注与认真。
吕辰面前摆着一堆厚厚的记录稿和各单位提交的课题简介中。
他负责的部分，不仅包含了昨日“前瞻技术”组关于北大魏知远教授那个宏大理论模型的激烈讨论，更夹杂着许多其他单位提交的、在当前看来似乎有些“天马行空”、应用前景模糊的“边缘课题”或“基础研究”项目。
他快速的记录着：
北大-一钢理论中心，复杂工业自动化系统通用理论模型……
当前阶段，理论构建与模拟验证完成，缺乏大规模工业现场数据支撑……
合作意向，寻求具备全流程自动化实践平台的单位进行联合验证与数据校准……
吕辰将这条仔细记录下来，并在旁边备注了“红星-清华实践基地已初步接洽。
接着，他翻到下一份记录，来自长光所，附在北大牵头的一个光学研究项目之下，但似乎并未在大会上重点提及。
课题名称是‘高精度光学微细图形曝光技术’，主要应用于制造高精度衍射光栅、显微镜标尺等光学元件。
当前瓶颈限于微米级图形加工稳定性、掩模制备精度等。
技术特点是利用紫外光进行表面图形化，可实现非接触、高分辨率图案转移。
讨论组认为该技术是光学仪器精度提升的关键，但在一般工业领域应用前景尚不明确，研发投入较高。
看到这里，吕辰的心脏猛地一跳！
光学微细图形曝光技术？
紫外光进行表面图形化？
高分辨率图案转移？
这……
这不就是光刻技术的雏形吗？
是未来集成电路制造的核心环节之一！
他强压下心中的激动，继续往下看，发现这项技术在讨论中被归类为“专用精密仪器制造技术”，优先级并不高，被认为与当前主流的钢铁、机械等重工业领域关联度不大。
他又陆续看到了几条被“淹没”在众多课题中的记录。
一个是来自中国科学院半导体研究所的‘高纯度单晶硅区域熔炼技术’。
该技术通过先进的区域熔炼方法，能够提纯硅材料，获得纯度高达6N以上的单晶硅。
其申报目的，是用于当时更受关注的半导体二极管和晶体管的研发。
在讨论中，它被记为“半导体材料纯化工艺”，看起来只是电子元器件领域的一个辅助性技术。
最主要的是，在当前锗晶体管仍占主导、硅材料应用前景不明且提纯能耗巨大的背景下，这项技术被认为“不经济”，未能得到足够重视。
另一个是来自工业学院-真空电子技术研究所的‘真空薄膜化学气相沉积技术’。
该技术旨在真空环境下，通过精确控制的化学反应，在基片表面沉积一层氮化硅薄膜，目的是为了增强电子管的耐用性和绝缘性能。
在当前情况下，随着晶体管技术的兴起，电子管渐显颓势，这项技术也被视为“过时”，且其薄膜沉积的精度要求远超当时一般工业需求，因此被看作是“实验室里的玩具”。
但在吕辰看来，这分明就是芯片制造中不可或缺的化学气相沉积工艺的基础，是未来沉积绝缘层和金属布线层的关键技术！
最后一个甚至是清华大学电子工程系自家的成果，‘超精密电子束扫描定位技术’。
该技术利用电子束在真空中的微米级扫描与定位，主要用于电子显微镜的图像分析和材料表面探测，被列为“电子光学仪器精度提升项目”。
其研究目的非常纯粹，就是为了服务科研成像。
然而，吕辰知道，这正是电子束光刻的前身，不仅可以用于制造高精度的光刻掩模版，甚至能直接进行芯片电路的“写入”，是实现极高精度电路图案的又一利器。
只是因其设备昂贵、操作复杂，在六十年代初的中国，仅能用于少数顶尖高校的基础研究，自然被批评为“脱离生产实际”。
本小章还未完，请点击下一页继续阅读后面精彩内容！