他首先指向了“光学微细图形曝光技术”：“这项由长光所研发的技术，能在玻璃无器件上制造微米级图形，那么，他肯定也能在其他地方，刻蚀出复杂的电路图案！我们可以设想，通过不断提升刻蚀精度，我们就能够将设计好的电路图，刻蚀到半导材料上，定义出晶体管的源、漏、栅以及复杂的互连线。”
他顿了顿：“因此，我们认为，这就是集成电路图形化的基石！”
接着，他提到了“高纯度单晶硅区域熔炼技术”：“半导体所的这项技术，旨在获得纯度极高的单晶硅。请大家注意，硅，这种地球上储量丰富的元素，当其纯度达到极高水平并形成完美晶体时，是制造晶体管和集成电路的理想材料！”
他定性道：“它是承载集成电路的最理想基底，有了它，集成电路的研究就不再是无本之木。”
然后，他解释了“真空薄膜化学气相沉积技术”：“工业学院与真空电子所研究的这项技术，在真空环境下于基片表面沉积特定薄膜。我们认为，它可以用来在硅片上生长出优质的绝缘层，也能沉积出作为晶体管栅极的多晶硅，更能在层层电路之间沉积金属来实现互连。”
“这项技术，正是构建集成电路立体大厦，不可或缺的增材工艺！”
最后，他点出了“超精密电子束扫描定位技术”：“我们清华电子系开展的这项研究，利用电子束进行纳米级定位与‘书写’。这不仅是制造高精度模版的利器，甚至可以直接用于书写最精细的电路图案，尤其是在光刻技术精度尚不足以满足要求的当下，电子束将是突破极限的关键手段！”
“它是我们迈向更高集成度的一柄‘雕刻刀’！”
吕辰的论述，将四项孤立的技术，与一个宏大的“集成电路”产业蓝图紧密地串联起来。
会场内寂静无声，所有人都被这番超越时代视野的论述所吸引、所震撼。
就连前排就坐的钱先生，也微微前倾身体，镜片后的目光闪烁着深思。
“同志们，”吕辰的声音带着一种信念，“这四项技术，单看或许‘无用’，或许‘超前’，但若能有机结合，系统性攻关，它们将共同构成集成电路产业的初始技术支柱！这绝非遥不可及的幻想，而是有清晰技术路径可以探索的未来！这关系到我们能否在未来，掌握核心技术，不再受制于人！这是工业化升级和科技进步的根基！”
他最后总结道：“因此，我强烈建议，在本次会议的备忘录中，应显着提升这四项技术的战略定位，明确其对于集成电路这一未来战略性产业的奠基性意义，并倡议依托百工联席会议建立的协作机制，立即启动跨单位、跨学科的联合预研！”
吕辰的发言完毕，会场在短暂的沉寂后，爆发出热烈的掌声。
这时，刘星海教授缓缓起身，走向发言席。
他与吕辰交换了一个眼神，眼神中充满了嘉许。
刘教授站在席前，气度沉稳，以一种纵观全局的视野，开始了论述。
“刚才吕辰同学的发言，非常精彩，也极具前瞻性。他为我们描绘了集成电路这一未来科技高地的战略意义。我想在此基础上，进一步强调一点：中国工业要实现真正的、可持续的、引领时代的发展，绕不过集成电路这一关！这绝不是可选项，而是我们必须占领的战略高地！”
他环视全场：“或许有人觉得这还很遥远。但我要告诉大家，国际上，特别是美国，已经有了集成电路的雏形，并投入巨资进行研发。他们正在做的事情，将决定未来几十年全球科技的格局！我们已经看到了苗头，听到了脚步声，难道还要等到别人把我们远远甩在身后，才来追赶吗？”
他援引了一些国内外期刊上零星的、却足以说明问题的研究动态，展示了国际上前沿的探索。
“我们是有基础的！”刘星海教授语气转为激昂，“这四项技术，就是我们的基础！它们分散在不同单位，看似弱小，但正如吕辰所论证的，它们指向的是同一个宏伟目标！而且，今天坐在这里的各位，都是在工业控制系统的研发中，积累了丰富的电子系统设计、集成和工程化经验。我们对工业需求的理解，对系统复杂性的把握，正是将实验室技术推向工程应用不可或缺的一环！”
他提出了一个掷地有声的建议：“因此，我正式提议，以此次会议为契机，以备忘录确立的协作框架为依托，立即启动一个国家级的研究计划！集中大家的优势力量，打破单位壁垒，分工协作，各展所长，形成合力，共同向集成电路这一战略高地进军！”
这个提议，如同在平静的湖面投入一颗巨石，激起了千层浪。
我支持刘教授的建议！”北大的魏知远教授第一个站起来响应，“集成电路的发展，离不开深厚的数理基础和理论模型支撑。我们北大理论中心愿意在此领域，与各兄弟单位通力合作，提供理论支持与算法研究！”
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