2018年深秋，北京中关村的银杏叶簌簌飘落，“建军科技”总部大楼的环形会议室内却气氛凝重。林卫国的指尖在触控屏上快速滑动，屏幕上滚动的新闻标题刺痛着所有人的神经——美国商务部正式将“建军科技”列入实体清单，禁止其获取美国的芯片制造设备及技术服务。会议室里，林晓阳盯着屏幕上的禁令条款，眉头紧锁：“这比我们预想的还要早。”
“意料之中。”林建军推开会议室的门，手里捧着一个泛黄的牛皮纸袋，金属拉链摩擦的声音在寂静中格外刺耳，“但我们不是毫无准备。”他走到屏幕前，调出系统奖励的《中美科技竞争前瞻报告》深度版，用红笔圈出“半导体设备、工业软件、高端材料”三大领域的封锁时间线——禁令生效节点与报告预测几乎分毫不差。
窗外的天色渐暗，暮色笼罩着林立的写字楼群。林建军想起2008年金融危机时，他在美国街头看到的“中国威胁论”宣传海报，那些刺眼的文字仿佛又在耳边回响：“技术主权之争，从来不是公平竞赛。”但手中的牛皮纸袋里，装着的却是他们十年前埋下的“技术种子”——系统奖励的光刻机技术草图。
回溯十年：技术种子的埋下
2008年，林建军在国家智库会议上签到获取前瞻报告时，系统的提示音带着历史使命感响起：【奖励光刻机技术草图：含光学系统光路设计、双工件台运动控制原理、光源能量校准方法，可支撑28nm光刻机国产化路径探索】。这份草图并非完整图纸，而是标注着专利规避方向的关键节点——比如采用非球面光学镜头替代蔡司专利垄断的球面设计，用谐波减速器规避ASML精密导轨的专利壁垒。
当时的“建军科技”刚跻身全球智能手机供应链，林卫国建议将资源投入市场扩张，而林建军却坚持：“技术上的敌人不会等你强大了才动手。这些图纸，是我们留给未来的‘技术备胎’。”于是，他秘密启动代号“磐石”的十年技术储备计划，联合上海微电子研究所、长春光机所等单位，以学术合作名义开展分散研究，确保每个机构仅掌握局部技术细节。
2018年制裁爆发：实验室里的突围战
如今，禁令如预期而至。深夜的光刻实验室里，林晓阳的AI团队正在紧张调试算法。“EDA布线效率提升60%，但工艺规则检查仍有30%不通过。”首席算法工程师李楠揉着发红的眼睛，将屏幕转向林卫国，“传统EDA软件用的都是美国规则库，我们得重写底层验证逻辑。”
“用系统奖励的智能布线算法。”林晓阳滑动平板调出数据流，“把十年积累的国产光刻胶参数、机床运动误差补偿数据都喂进去。AI能在1小时内完成1000个节点的优化，避开专利雷区。”他的声音带着年轻人特有的锐气，却又暗含对父亲的信任——正是林卫国在2010年代持续投入半导体基础研发，才让这些数据积累成为可能。
隔壁的光学实验室，林建军正在与上海微电子的总工程师视频连线。全息投影中，德国蔡司的光刻机镜头剖面图缓缓旋转，“ASML的专利集中在这12个光学曲面。”他用激光笔指着图中标记，“但我们用长春光机所的自由曲面设计，误差控制在0.0005毫米内，同样能达到数值孔径1.35的标准。”
“可是量产精度呢？”视频那头的工程师声音透着焦虑，“我们的五轴加工中心精度还卡在0.001毫米，根本做不出这么精密的镜片基座。”
林建军转向墙角的机床操作台，那里放着沈阳机床送来的五轴加工中心改造方案：将传统滚珠丝杠替换为液体静压导轨，结合AI实时误差补偿。这正是磐石计划中专攻精密制造的子项目，参数优化文档上还留着小王师傅的笔记——当年亦庄汽车厂的工人徒弟，如今已是精密部件车间的技术骨干。
“试试这个。”他将方案推给工程师，“让AI根据镜片重量、温度实时调整进给速度，补偿热变形误差。三个月前在沈阳机床测试时，已经能稳定加工0.0005毫米级的腔体了。”
首次流片：四合院精神的见证
凌晨三点，首台28nm光刻机原型机在合肥“技术备胎产业园”组装完成。林建军不顾家人劝阻，坚持要到现场见证。当他坐着轮椅被推进无尘车间时，看到的是年轻工程师们布满血丝的眼睛，以及墙上悬挂的标语——“技术报国，分秒必争”，落款是2017年刚入职的技术员。
“林老，这是我们用系统草图设计的光路系统。”上海微电子的总工程师掀开防护罩，露出内部复杂的光学元件，“光源能量校准用了您教的非球面反射镜组，成本比ASML低40%，寿命却延长了2万小时。”
随着真空泵启动的轰鸣声，第一片晶圆缓缓进入光刻区域。所有人屏住呼吸，盯着实时监控屏：光线穿透掩模版，在光刻胶上留下纳米级电路图案，显影后的晶圆被机械臂小心取出。
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